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RTP-150快速退火爐

描述:RTP-150快速退火爐
升溫速度:150攝氏度每秒,可以用于大6英寸晶圓或者156mm x 156mm尺寸樣品熱處理。RTP-150可以支持惰性氣體保護、低真空或高真空熱處理。

更新時間:2020-10-31
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詳情介紹
品牌其他品牌價格區間面議
產地類別進口應用領域化工,能源,電子,印刷包裝,電氣

RTP-150快速退火爐

升溫速度:150攝氏度每秒,可以用于大6英寸晶圓或者156mm x 156mm尺寸樣品熱處理。RTP-150可以支持惰性氣體保護、低真空或高真空熱處理。

技術規格:
- 溫度:1000攝氏度,或1200攝氏度(選配);
- 升溫速率:75攝氏度/秒,或150攝氏度/秒(選配);
- 降溫速度:200攝氏度/分鐘 (1000攝氏度-->400攝氏度);
- 溫控均勻性:≤ 1.5%設定溫度;
- 加熱方式:紅外鹵素燈,頂部及底部加熱;
- 燈管數量及功率:24支/21千瓦;
- 腔體冷卻:水冷方式;
- 襯底冷卻:氮氣吹掃;
- 工藝氣路:MFC控制,多4路 (氮氣、氬氣、氧氣、氫氮混合氣等);
- 主機尺寸及重量:505mm x 504mm x 420mm (W x D x H),約55Kg;


 RTP-150快速退火爐
儀器特點:
- 快速退火爐,有惰性氣體保護、低真空型號(10-3 hPa)、高真空型號(10-6 hPa)等多個配置;
- 可在不同氣氛環境下使用,如惰性氣體、氧氣、氫氮混合氣等;
- 控制方式:SIMATIC, SPS人機界面控制,7英寸觸摸屏;
- 可存儲50個程序,每個程序多分為50段控制;
- 全自動智能控制,包括溫度、時間、氣體流量、真空度、循環水均可自動設置;
- 優異的溫控均勻性,的工藝重現性;
- 臺式設計;


 
應用領域:
- 離子注入/接觸退火;
- 快速熱處理(RTP),快速退火(RTA),快速熱氧化(RTO),快速熱氮化(RTN);
- 可在真空、惰性氣氛、氧氣、氫氣、混合氣等不同環境下使用;
- SiAu, SiAl, SiMo合金化;
- 低介電材料;
- 晶體化,致密化;
- 太陽能電池片鍵合;
等等...

 

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